[发明专利]一种SiC陶瓷的低温常压液相烧结制备方法有效

专利信息
申请号: 201410508580.5 申请日: 2014-09-28
公开(公告)号: CN104326752A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 施春阳 申请(专利权)人: 安徽德润工业设备有限公司
主分类号: C04B35/64 分类号: C04B35/64;C04B35/565
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 方琦
地址: 242800 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种SiC陶瓷的低温常压液相烧结制备方法。1)在1450-1650℃温度下,加入Al2O3-Y2O3-CaO体系的氧化物烧结助剂与SiC粉体表面的SiO2氧化层反应形成一定粘度的液相,促进SiC陶瓷的烧结致密化,从而获得高强度的SiC陶瓷;2)SiC粉体的氧化无须采用预氧化工艺,直接在SiC陶瓷烧结过程中形成,SiC的氧化程度通过预埋粉及烧结温度控制来加以控制;3)SiC陶瓷的烧结在空气中进行,相对于保护气氛烧结炉而言,普通箱式烧结炉的设备投入大大降低,且因无须保护气氛,SiC陶瓷的烧结温度较低,因而提高了烧结效率,SiC陶瓷制备成本也有所降低。SiC陶瓷的低温常压液相烧结制备的步骤:配料→混料→成型→排胶→埋粉烧成。
搜索关键词: 一种 sic 陶瓷 低温 常压 烧结 制备 方法
【主权项】:
本发明涉及一种SiC陶瓷的低温常压液相烧结制备方法,其特征在于:该方法将SiC原料粉体与氧化物烧结助剂粉体经湿混后制成浆料;浆料在100‑120 ℃干燥3‑4 h,粉碎后过80‑100目筛,加入成形剂后,在90‑100 ℃水浴锅内均匀加热,每2‑3 min搅拌一次,共水浴搅拌30‑60 min;待冷却到室温后再过80‑100目筛,混合粉采用单向压制方式成形;在580‑600 ℃保温20‑30 min排胶;最后埋粉烧结,随炉冷却得到高强度SiC陶瓷样品。
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