[发明专利]人造石墨散热片的制造方法有效
申请号: | 201410489431.9 | 申请日: | 2014-09-23 |
公开(公告)号: | CN105502348B | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
发明(设计)人: | 吴玉祥;周宪聪;陈伯坤 | 申请(专利权)人: | 江门市荣炭电子材料有限公司 |
主分类号: | C01B32/205 | 分类号: | C01B32/205 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙)11301 | 代理人: | 刘祖芬 |
地址: | 529152 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种人造石墨散热片的制造方法,其先将一PI(Polyimide)膜送入一热阻式石墨化炉中,以1100℃‑1300℃的加热温度,对该PI膜进行加热碳化,令该PI膜碳化后形成一PI碳化片;接着,再以2800℃‑3000℃的加热温度,对该PI碳化片进行加热石墨化,使该PI碳化片石墨化后形成一PI石墨散热片;之后,再将该PI石墨散热片冷却,冷却至室温后,以一压延装置压延其厚度,使该PI石墨散热片经压延后,形成厚度15‑30μm的石墨散热片成品。 | ||
搜索关键词: | 人造 石墨 散热片 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种人造石墨散热片的制造方法,其特征在于包括以下步骤:步骤一:先将一PI膜送入一热阻式石墨化炉中,以1100℃‑1300℃的加热温度,对该PI膜进行加热碳化,使该PI膜碳化后形成一PI碳化片;步骤二:以2800℃‑3000℃的加热温度,对该PI碳化片进行加热石墨化,使该PI碳化片石墨化后形成一PI石墨散热片;步骤三:将该PI石墨散热片冷却,冷却至室温;步骤四:以一压延装置压延其厚度,使该PI石墨散热片经压延后,形成厚度15‑30μm得石墨散热片成品;其中,该热阻式石墨化炉的加热方式为:将PI膜作为热阻体,对该PI膜通电加热。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江门市荣炭电子材料有限公司,未经江门市荣炭电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410489431.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种灭火型水陆两栖飞机水箱
- 下一篇:用于无人机倾斜摄影系统的相机挂载装置