[发明专利]形成聚芳聚合物的方法

摘要

形成聚芳聚合物的方法。一种形成聚合物的方法，所述方法包括在催化剂和碱存在下使单体反应，以形成聚合物；其中所述单体包括具有以下结构的双(芳基)缩醛。该聚合反应容许在双(芳基)缩醛上的羟基和其它官能团。在其它应用中，聚缩醛和聚缩酮是光致抗蚀剂组合物的有用组分。

主权项

一种形成聚合物的方法，所述方法包括：在催化剂和碱存在下使单体反应，以形成聚合物；其中所述单体包括具有以下结构的双(芳基)缩醛其中Y1和Y2各自独立地是氯、溴、碘、甲磺酸酯基、甲苯磺酸酯基、三氟甲基磺酸酯基、或Bx，其中Bx的每次出现独立地是通过硼原子结合到Ar1或Ar2的含硼官能团；Ar1和Ar2各自独立地是未取代或取代的C6‑18亚芳基，或者未取代或取代的C3‑18杂亚芳基，其中Ar1和Ar2彼此不共价连接来形成包括‑Ar1‑O‑C‑O‑Ar2‑的环状结构；和R1和R2各自独立地是氢、未取代或取代的C1‑18直链或支链烷基、未取代或取代的C3‑18环烷基、未取代或取代的C6‑18芳基、或未取代或取代的C3‑18杂芳基；和，R1和R2任选地彼此共价结合以形成包括‑R1‑C‑R2‑的环；其中，当Y1和Y2的一个是氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基，且Y1和Y2的另一个是Bx时，所述聚合物包括多个具有以下结构的重复单元其中Ar1、Ar2、R1和R2是如上所定义的，且Ar1、Ar2、R1和R2的每次出现是独立限定的；其中，当Y1和Y2都是Bx时，所述单体进一步包括具有以下结构的双(离去基团)亚芳基X‑Ar3‑X其中X的每次出现独立地是氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基；其中Ar3是未取代或取代的C6‑18亚芳基，或未取代或取代的C3‑18杂亚芳基；和，其中所述聚合物包括多个具有以下结构的重复单元其中Ar1、Ar2、、Ar3、R1和R2是如上所定义，且Ar1、Ar2、Ar3、R1和R2的每次出现是独立限定的；和其中当Y1和Y2彼此独立地选自氯、溴、碘、三氟甲基磺酸酯基、甲磺酸酯基或甲苯磺酸酯基时，所述单体进一步包括具有以下结构的双(含硼官能团)亚芳基Bx‑Ar3‑Bx其中Bx的每次出现独立地是通过硼原子结合到Ar3的含硼官能团；和，其中所述聚合物包括多个具有以下结构的重复单元其中Ar1、Ar2、、Ar3、R1和R2如上所定义，且Ar1、Ar2、Ar3、R1和R2的每次出现是独立限定的。