[发明专利]一种光学玻璃抛光专用磁流变液及其制备方法有效
| 申请号： | 201410442437.0 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104231941A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 仇中军;高山;邹大程;房丰洲 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 陆艺 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学玻璃抛光专用磁流变液及其制备方法，光学玻璃抛光专用磁流变液，由下述组份制成：羰基铁粉，金刚石颗粒，羧甲基纤维素钠，碳酸钠、聚乙二醇、三乙醇胺、四硼酸钾、苯骈三氮唑、六次甲基四胺，其余为水。由于采用水作为基液，因此在保证具备良好流变性能基础上，能够实现磁流变液作为抛光工具所需要的机械去除、润滑、冷却、清洗、防锈、渗透等性能，并通过对光学玻璃表面改性作用，打破光学玻璃的微观网络结构，弱化结合键键能，降低光学玻璃表面硬度，因此能够大大增强对光学玻璃表面的抛光去除作用，并降低抛光介质对光学玻璃表面、亚表面损伤，从而实现超光滑表面光学玻璃元器件的高表面质量、高效率、低成本的抛光加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学玻璃 抛光 专用 流变 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光学玻璃抛光专用磁流变液，其特征是按重量百分比由下述组份制成：羰基铁粉30％‑70％，金刚石颗粒1％‑10％，羧甲基纤维素钠1％‑5％，碳酸钠0.1％‑2％、聚乙二醇0.5％‑2％、三乙醇胺0.1％‑1％、四硼酸钾0.5％‑2％、苯骈三氮唑0.1％‑2％、六次甲基四胺0.1％‑1％，其余为水。
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