[发明专利]一种双光谱光学成像系统及成像设备有效
| 申请号： | 201410439002.0 | 申请日： | 2014-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN105372800B | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 吕建成;焦国华;吴国俊;董玉明;刘鹏;陈巍;刘文权;鲁远甫;陈良培;章逸舟;罗阿郁 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G01J3/12 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于光学成像技术领域，提供了一种双光谱光学成像系统，包括自物方到像方依次共轴设置的主透镜、反射镜组、主反射镜、紫外滤光片及日盲紫外成像元件，主透镜和主反射镜的中间部位分别开设有第一通光孔和第二通光孔；主反射镜设有主反射面；反射镜组包括面向第一通光孔且与光轴成角度的第一反射面，及面向第二通光孔且垂直于光轴的第二反射面，在第一反射面的反射光路上设有可见光成像元件；第一反射面将穿过第一通光孔的光反射至可见光成像元件，第二反射面将主反射面反射来的光反射至日盲紫外成像元件。本发明通过日盲紫外和可见光双光谱成像可准确判断电晕放电的区域。系统结构紧凑，分辨率高，成像距离远，适合用于电晕放电的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 光学 成像 系统 设备 | ||
【主权项】：
一种双光谱光学成像系统，其特征在于，包括自物方到像方依次共轴设置的主透镜、反射镜组、主反射镜、紫外滤光片及日盲紫外成像元件，所述主透镜和主反射镜的中间部位分别开设有第一通光孔和第二通光孔；所述主反射镜设有用于将来自主透镜的光进行反射的主反射面；所述反射镜组包括面向所述第一通光孔且与光轴成角度设置的第一反射面，以及面向所述第二通光孔且垂直于光轴的第二反射面，在所述第一反射面的反射光路上设有可见光成像元件；所述第一反射面将穿过所述第一通光孔的光反射至可见光成像元件，所述第二反射面将所述主反射面反射来的光反射至日盲紫外成像元件；所述紫外滤光片的通过波段为240nm～280nm，截止深度小于10‑5，所述主透镜的入射面和出射面、所述第二反射面以及所述主反射面均为球面，所述第一反射面为平面，所述可见光成像元件采用可见光变焦相机，所述主反射镜除所述主反射面之外的部分做发黑处理。
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