[发明专利]一种数字X光机自动曝光控制方法及装置

摘要

本发明涉及一种数字X光机自动曝光控制方法及装置，属于数字放射成像技术领域。主要包括二次曝光中预曝光图像的处理以及自适应优化曝光参数方法及装置、曝光控制方法及装置。本发明通过预曝光图像灰度拉伸，以位置对应找到最优阈值，将图像分割为不同区域，提取不同成分的感兴趣区域，分别计算平均灰度、信噪比、对比度，以此来自适应优化主曝光参数(mA、s、KV)；通过同步控制单元为曝光过程及数据采集提供精准时序，防止延时或提前反应影响成像效果。本发明采用多种成分，多目标区域，多种图像标准，通过自适应算法来调整曝光参数，在同步控制下曝光，可以使用较少的曝光剂量获得最优质的图像。

主权项

一种数字X光机自动曝光控制方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：设定预曝光参数：KV、mA、s，控制系统以该参数进行预曝光；KV：X线摄影管电压，主要决定X射线的穿透能力，mA：X线摄影管电流，主要影响图形的信噪比，s：X线摄影的曝光时间，主要影响成像清晰度；步骤二：通过预曝光图像灰度拉伸，找到最优阈值，将图像分割为不同区域，提取不同成分的感兴趣区域；步骤三：对各个区域进行灰度统计，计算平均灰度、图像对比度、信噪比；步骤四：以各区域的平均灰度、图像对比度、信噪比优化主曝光参数，包括KV、mA、s；步骤五：采用优化后的曝光参数进行主曝光，获取本次曝光图像；所述的设定预曝光参数具体包括：系统根据病人体位、身高和体重生成预曝光参数表，保存于存储器中，操作人员输入病人体位、身高和体重就设定了预曝光参数；在曝光完成后，根据曝光效果对预曝光参数表进行优化更新，其方法如下：Y=X+f*Σi=1n(Wsta-Wiexp)n*Wsta*ΔX]]>其中，X为预曝光参数表中参数；Y为优化后参数，Wsta、分别为标准图像、第i次曝光图像特征参数；ΔX为优化刻度；f为预曝光参数优化系数，n为曝光次数。