[发明专利]用于产生等离子体射流的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201410426246.5 申请日: 2014-08-26
公开(公告)号: CN104427735B 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 托马斯·斯特尔埃尔;罗伯特·尼默福尔;弗洛里安·西尔伯迈尔;丹尼尔·普拉策 申请(专利权)人: 弗罗纽斯国际有限公司
主分类号: H05H1/32 分类号: H05H1/32
代理公司: 北京金思港知识产权代理有限公司11349 代理人: 邵毓琴
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于在大气压力下产生用于工件(18)的表面处理的等离子体射流(2)的一种方法和设备(1),所述设备(1)具有用于能够产生等离子体的介质(5)的供应线路(8)、用于借助电弧(22)来电激发所述能够产生等离子体的介质(5)的装置(3),所述电弧(22)在阴极(19)和被构造成喷嘴(21)的阳极(20)之间被周期性地点燃。为了即使在等离子体射流(2)的相对较低的温度也能够获得高效率的等离子体射流(2),在用于电激发所述能够产生等离子体的介质(5)的所述装置(3)的上游布置用于预热所述能够产生等离子体的介质(5)的加热装置(23)。
搜索关键词: 用于 产生 等离子体 射流 方法 设备
【主权项】:
一种用于在大气压力下产生用于工件的表面处理的等离子体射流的方法,其中,所述等离子体射流通过借助电弧电激发能够产生等离子体的介质来产生,所述电弧在阴极和被构造成喷嘴的阳极之间被周期性地点燃,并且所述等离子体射流通过所述喷嘴引导向待处理的表面的方向,其特征在于,在借助所述电弧进行所述电激发之前在加热装置中预热所述能够产生等离子体的介质,其中能够产生等离子体的介质的热激发与借助电弧进行的电激发分别发生,并且其中向待处理的所述表面的方向从所述喷嘴引导出来的等离子体射流的温度被调节在10℃至500℃之间。
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