[发明专利]一种镀有阻性材料的铜箔的制造方法有效
申请号: | 201410424188.2 | 申请日: | 2014-08-26 |
公开(公告)号: | CN104152879A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 崔成强 | 申请(专利权)人: | 安捷利电子科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 肖云 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供镀有阻性材料的铜箔的制造方法,对铜箔的非镀面设置保护层,对铜箔进行前处理,最后通过化学镀镀上阻抗材料层。通过在非镀面贴上感光干膜或微粘膜,或者镀上作为保护层的阻抗材料,能够对非镀面进行保护,从而使后续的工艺过程不会发生误差,使非镀面的后续加工质量更好。对镀面进行前处理能够使镀面进行化学镀时,镀层质量更好。采用化学镀镀上阻抗材料层,工艺操作方便,并且镀层均匀、稳定,技术条件要求较为简单,成本较低。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀有阻性 材料 铜箔 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种镀有阻性材料的铜箔的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:a、在铜箔的非镀面上贴上一层隔离膜;b、对铜箔的镀面进行预处理:将铜箔进行除油及酸洗处理,随后将铜箔浸入微蚀液中进行微蚀,然后对已被微蚀的铜箔活化及酸侵,最后把铜箔水洗,并烘干备用;c、在铜箔的镀面通过化学镀的方式镀上一层阻抗材料层;d、移除非镀面上的隔离膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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