[发明专利]一种光刻机光源的优化方法

摘要

一种光刻机光源优化方法，以像素化的光源为粒子，将理想图形与当前光源照明模式下掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为目标函数，利用含有线性递减权重和压缩因子的粒子群优化算法，通过更新粒子的速度与位置信息迭代优化光源图形。本发明有效提高了光刻成像质量，具有原理简单、易于实现、收敛速度快的优点。

主权项

一种光刻机光源优化方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：①初始化光源图形J的大小为Ns×Ns，设置光源图形J上发光区域的亮度值为1，不发光区域的亮度值为0，光源图形J的坐标为(f,g)；初始化掩模图形M的大小为Nm×Nm，设置掩模图形M上透光部分的透射率为1，阻光部分的透射率为0，掩模图形M的坐标为(x,y)；初始化目标图形It＝M；初始化光刻胶阈值tr和灵敏度α；初始化粒子群规模N、学习因子c1和c2、惯性权重最大值ωmax和最小值ωmin；初始化各粒子的位置和速度其中i(1≤i≤N)为粒子编号，j(j≥1)为粒子维度，k(k＝1)为迭代次数；初始化评价函数阈值Fs、最大迭代次数km；②初始化光源图形J对应的控制变量θ，θ(f,g)表示坐标为(f,g)的控制变量θ，对应于某粒子的位置信息xi,j；③采用粒子群算法优化控制变量θ，并计算第k次迭代时的光源图形J(k)，公式如下：J(k)=1+θ(k)2,]]>式中，θ(k)表示第k(1≤k≤km，且k为正整数)次迭代时的控制变量θ值；④采用光刻仿真软件，由光源图形J(k)和掩模图形M得到第k次迭代时的空间像Ia(k)，并计算第k次迭代时的光刻胶像Ir(k)，公式如下：Ir(k)(x,y)=sig{Ia(k)(x,y)}=11+e-α(Ia(x,y)-tr);]]>⑤计算第k次迭代时的评价函数值F(k)，公式如下：F(k)=||Ir(k)-It||22=ΣyΣx(Ir(k)(x,y)-It(x,y))2;]]>⑥定义第k次迭代时粒子本身所找到的使得评价函数值最小的位置为第k次迭代时的个体极值第k次迭代时，将F(k)与对应的评价函数值比较，如果F(k)小于对应的评价函数值，则更新为θ(k)(f,g)，其中θ(k)(f,g)为第k次迭代时的θ(f,g)；⑦定义第k次迭代时整个种群中粒子找到的使得评价函数值最小的位置为第k次迭代时的全局极值第k次迭代时，将F(k)与对应的评价函数值比较，如果F(k)小于对应的评价函数值，则更新为θ(k)(f,g)；⑧计算粒子第(k+1)次的速度和位置xi,j(k+1)=xi,j(k)+vi,j(k+1),j=1,2...d,]]>式中，压缩因子C＝c1+c2，惯性权重ω=ωmax-k(ωmax-ωmin)km,]]>为第k次迭代时第i个粒子第j维上的为第k次迭代时第g个粒子第j维上的⑨如果F(k)小于Fs，或者k大于km，进入步骤⑩，否则返回步骤③；⑩终止优化，为全局极值pg，将pg所表示的信息作为优化后光源输出。