[发明专利]用于45度平面镜面形检测的子孔径拼接测量装置与方法有效
| 申请号： | 201410422479.8 | 申请日： | 2014-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN104154876B | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 李永;唐锋;王向朝;李杰;吴飞斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 张泽纯,张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于45度平面镜面形检测的子孔径拼接测量装置，包括斐索干涉仪、第一标准镜、第二标准镜、45度平面镜、拼接位移台、二维调整架、倾斜二维调整架。本发明在被测45度平面镜上方加入反射镜，使光原路返回，对45度平面镜进行子孔径拼接干涉测量，采用变权重法对子孔径面形数据进行拼接，得到全口径面形。本发明具有1，操作简易，45度平面镜镜面不易变形，测量精度高；2，子孔径面形数据采用变权重数据融合拼接，精度高；3，通过改变第一标准镜和第二标准镜的反射率，既可以测量未镀膜面，也可以测量高反面，均有较高的干涉对比度的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 45 平面镜 检测 孔径 拼接 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于45度平面镜面形检测的子孔径拼接测量装置，其特征在于，包括：斐索干涉仪(1)、放置在该斐索干涉仪(1)的参考镜调整架(1‑1)上的第一标准镜(2)、拼接位移台(5)、固定在该拼接位移台(5)上的二维调整架(6)、装夹在该二维调整架(6)上的45度平面镜(4)、倾斜二维调整架(7)，以及装夹在该倾斜二维调整架(7)上的第二标准镜(3)；所述的45度平面镜(4)与所述的斐索干涉仪(1)的发射光呈45度，所述的第二标准镜(3)位于该45度平面镜(4)的上方、且与该45度平面镜(4)的一反射光呈45度；标称反射率为1％的第一标准镜(2)与标称反射率为99％的第二标准镜(3)组合测量未镀膜45度平面镜(4)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410422479.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
