[发明专利]一种在真空中搭载衬底的方式有效
| 申请号： | 201410391437.2 | 申请日： | 2014-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN104152844A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 董国材;张祥;刘进行;王雷 | 申请（专利权）人： | 江南石墨烯研究院 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C16/02 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 213149 江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于薄膜生长或薄膜制备领域，更确切地说涉及在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种在真空下搭载衬底的方法，此方法可以解决高温下衬底原子流失影响平整度的问题，并且由于有效的利用了空间，可以实现薄膜的大尺寸、大批量的生产；本发明将衬底（2）缠绕在固定于隔热板（3）上的桩子（1），这种搭载方式既节省空间，又可以保证任何衬底区域都有相对应的一衬底区域，相对应的两衬底区域可以互相补偿其在薄膜生长的高温过程中因为热蒸发所流失的衬底表面原子，从而有效避免衬底在高温下的蒸发造成的成膜形貌缺陷，可以批量生长出平整的、高质量的薄膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 空中 搭载 衬底 方式 | ||
【主权项】：
一种在真空中搭载衬底的方式，其特点在于：通过合理安插硬质耐高温的桩子在隔热板上，可以实现衬底紧贴桩子的致密缠绕，这种打桩缠绕的方式为所有的衬底区域都构建了相对应的衬底区域，从而实现在高温生长过程中相对的衬底区域互相补偿蒸发出来的表面原子，避免衬底表面原子在高温下蒸发造成的成膜形貌缺陷；另外，这种紧密缠绕的方式有效的利用了空间，可以实现大面积的薄膜生长。
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