[发明专利]一种在真空中以多面加热来构筑恒温区域的方式有效
| 申请号： | 201410391436.8 | 申请日： | 2014-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN104152859A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 董国材;张祥;刘进行;王雷 | 申请（专利权）人： | 江南石墨烯研究院 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/46 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 213149 江苏省常州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜生长或薄膜制备领域，更确切地说涉及在衬底上进行沉积，批量制备大面积薄膜的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种在真空中以多面加热来构筑恒温区域的方式，既可以解决高温下衬底原子蒸发的问题，又可以同时实现大面积薄膜的生长。可批量制备大面积薄膜材料的加热方案特点在于：多面加热的设计方法或类似装置（1），可以在真空中构筑一个较大范围的恒温区域；衬底表面蒸发的原子（4）沉积在对面的衬底（2），实现互相补偿，既可以有效避免基底表面原子在高温下蒸发造成的成膜形貌缺陷；又可以实现大面积薄膜的生长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 空中 多面 加热 构筑 恒温 区域 方式 | ||
【主权项】：
一种在真空中以多面加热来构筑恒温区域的方式，其特点在于：一个可进行多面（四面、五面、或者六面）加热的设计方法或类似装置，构筑一个温度比较均匀及恒定的较大区域，使得生长基底温度均匀，又通过一种特殊的安装衬底的方式，在生长过程中互相补偿基底蒸发的表面原子，避免基底表面原子在高温下蒸发造成的成膜形貌缺陷；可以实现大面积薄膜生长。
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