[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的研磨方法以及制造方法无效
| 申请号： | 201410336022.5 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN104325389A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 中山哲志 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/08 | 分类号： | B24B37/08;B24B37/12;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供磁记录介质用玻璃基板的研磨方法以及制造方法，即使所研磨的玻璃基板的主平面为镜面，也能够使用固定磨粒工具以较高的研磨速度进行研磨。在使用固定磨粒工具对作为镜面的玻璃基板的主平面进行研磨的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法中，所述固定磨粒工具的露出于研磨面的磨粒的平均面积为10μm2以上且300μm2以下，所述固定磨粒工具的研磨面的磨粒露出率为1.1％以上且3.0％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 研磨 方法 以及 制造 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，使用固定磨粒工具对作为镜面的玻璃基板的主平面进行研磨，所述磁记录介质用玻璃基板的研磨方法的特征在于，所述固定磨粒工具的露出于研磨面的磨粒的平均面积为10μm2以上且300μm2以下，所述固定磨粒工具的研磨面的磨粒露出率为1.1％以上且3.0％以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社，未经旭硝子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410336022.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
