[发明专利]一种研磨抛光盘的循环冷却结构有效

专利信息
申请号: 201410335256.8 申请日: 2014-07-15
公开(公告)号: CN104084885A 公开(公告)日: 2014-10-08
发明(设计)人: 许亮;彭关清;陈永福;裴化君;杜群波 申请(专利权)人: 宇环数控机床股份有限公司
主分类号: B24B55/02 分类号: B24B55/02;B24B37/34
代理公司: 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 代理人: 刘熙
地址: 410323 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种研磨抛光盘的循环冷却结构,包括中心旋转轴及间隙套设在中心旋转轴上的空套旋转轴,所述空套旋转轴与中心旋转轴的间隙中设有密封装置,所述密封装置设有互不连通的进水腔和出水腔,所述中心旋转轴上设有与旋转接头连接的第一进水道和第一出水道,所述空套旋转轴上设有与研磨抛光盘连通的第二进水道和第二出水道,所述第一进水道和第一出水道分别通过进水腔和出水腔与第二进水道和第二出水道连通。本发明可实现对研磨抛光盘盘面的主动循环冷却,将抛光时产生大量的热量及时带走,实现温度的精确控制,可提高研磨、抛光精度和效率,适应不同材料加工的要求。
搜索关键词: 一种 研磨 抛光 循环 冷却 结构
【主权项】:
一种研磨抛光盘的循环冷却结构,包括中心旋转轴及间隙套设在中心旋转轴上的空套旋转轴,其特征是所述空套旋转轴与中心旋转轴的间隙中设有密封装置,所述密封装置设有互不连通的进水腔和出水腔,所述中心旋转轴上设有与旋转接头连接的第一进水道和第一出水道,所述空套旋转轴上设有与研磨抛光盘连通的第二进水道和第二出水道,所述第一进水道和第一出水道分别通过进水腔和出水腔与第二进水道和第二出水道连通。
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