[发明专利]磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶有效
申请号: | 201410333321.3 | 申请日: | 2010-12-14 |
公开(公告)号: | CN104130172A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 刘骢;C-B·徐 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C07C381/12 | 分类号: | C07C381/12;C07D307/93;C07D519/00;C07J31/00;C07D333/46;C07C317/44;G03F7/039;G03F7/004 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供一种磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶。提供了一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物,其中W,Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基;任选取代的氟烷氧基;或任选取代的氟代碳环芳基;W’,Y’相互独立地为与W,Y相同基团;W”,Y”相互独立地为与W,Y相同基团;n,n’和n”各自相同或不同,并且分别为正整数;U,U’和U”各自相同或不同,并且分别为连接基团;R,R’和R”各自相同或不同,并且分别为任选取代的碳脂环基团,任选取代的杂脂环基团,任选取代的碳环芳基,或任选取代的杂芳香族基团;X+是反离子。 | ||
搜索关键词: | 磺酰光酸 产生 包含 光刻 | ||
【主权项】:
一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物:其中W,Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基;任选取代的氟烷氧基;或任选取代的氟代碳环芳基;W’,Y’相互独立地为与W,Y相同基团;W”,Y”相互独立地为与W,Y相同基团;n,n’和n”各自相同或不同,并且分别为正整数;U,U’和U”各自相同或不同,并且分别为连接基团;R,R’和R”各自相同或不同,并且分别为任选取代的碳脂环基团,任选取代的杂脂环基团,任选取代的碳环芳基,或任选取代的杂芳香族基团;X+是反离子。
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