[发明专利]一种扫描磁场磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 201410323751.7 | 申请日： | 2014-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN104109840A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 乐务时;钱涛 | 申请（专利权）人： | 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陆明耀;陈忠辉 |
| 地址： | 215022 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种扫描磁场磁控溅射阴极。该扫描磁场磁控溅射阴极包括靶座、第一磁体和第二磁体，所述第一磁体设置在所述靶座四周的内侧壁上、靶座顶部平面的下方，所述第二磁体活动设置在所述靶座的内部中间、靶座顶部平面的下方；所述第二磁体围绕所述靶座的纵向中心对称轴做规则运动。本发明的扫描磁场磁控溅射阴极还包括由靶材和靶座的侧壁形成的冷却水道。本发明的扫描磁场磁控溅射阴极，采用运动变化的磁场，能够扩大刻蚀区域，使得靶材被均匀刻蚀，而非集中在一个区域，提高了靶材的利用率；能够减少工艺过程中靶的打弧频次，改善膜层质量；采用靶材直接水冷，能够提高冷却效果，减少停工冷却，使得膜层品质稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扫描 磁场 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
一种扫描磁场磁控溅射阴极，其特征在于：该扫描磁场磁控溅射阴极包括靶座、第一磁体和第二磁体，所述第一磁体设置在所述靶座四周的内侧壁上、靶座顶部平面的下方，所述第二磁体活动设置在所述靶座的内部中间、靶座顶部平面的下方；所述第二磁体围绕所述靶座的纵向中心对称轴做规则运动。
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