[发明专利]自清洁高聚物薄膜或涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410323007.7 申请日: 2014-07-05
公开(公告)号: CN104148266A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 秦勇;赵骑;成立 申请(专利权)人: 兰州大学
主分类号: B05D5/08 分类号: B05D5/08;C08J7/06
代理公司: 兰州振华专利代理有限责任公司 62102 代理人: 张晋
地址: 730000 *** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种具有自清洁性能的高聚物薄膜或涂层及其制备方法。本发明的自清洁高聚物薄膜或涂层表面是由形状呈极不规则的、高度约为微米尺度的凸起构成,各凸起之间以数微米至数十微米间距相互分立,在一级结构凸起的表面上有大于等于数十至数百纳米的向外的乳突状或类似丝状的二级结构。本发明的自清洁高聚物薄膜或涂层制备方法建议采用离子刻蚀法。本发明的自清洁高聚物薄膜或涂层可具有较现有技术制备的表面更优的自清洁性能。
搜索关键词: 清洁 高聚物 薄膜 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
一种自清洁高聚物薄膜或涂层,其特征在于薄膜表面是由形状呈不规则的、高度约为微米尺度的凸起构成,各凸起之间以数微米至数十微米的间距相互分立,在一级结构凸起的表面上有大于等于数十至数百纳米的向外的乳突状或类似丝状的二级结构。
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