[发明专利]一种载玻片表面刻蚀规则微井阵列的方法

摘要

本发明涉及一种载玻片表面刻蚀规则微井阵列的方法，用于制备埋入式聚合物微点阵列芯片，包括以下步骤：载玻片表面刻蚀保护层的制备，石蜡溶解剂和玻璃刻蚀液的配置，规则阵列的打印，玻璃的刻蚀，去除刻蚀保护层。本发明的有益效果是：石蜡溶解剂能很好地在石蜡涂层上进行局部溶解使玻璃表面暴露从而形成微点阵列，使得玻璃刻蚀液能高效便利地对玻璃进行刻蚀，且刻蚀速度更快；加入石蜡保护层进行玻璃刻蚀，表面更容易被保护，不易破坏；操作工艺简易，刻蚀效果明显，反应时间短，所用原料皆为市售品，且价格低廉，容易获得。

主权项

一种载玻片表面刻蚀规则微井阵列的方法，用于制备埋入式聚合物微点阵列芯片，其特征是：包括以下步骤：a、载玻片表面刻蚀保护层的制备：将载玻片玻璃和固体石蜡放入烘箱中加热，石蜡熔化；将熔化的液体状石蜡转移至载玻片表面，用平面刮刀将液体状石蜡表面刮平；冷却，载玻片表面形成石蜡涂层；用平面刮刀对石蜡涂层进行打磨，使石蜡涂层达到一定厚度且表面平整，形成刻蚀保护层；b、石蜡溶解剂和玻璃刻蚀液的配置：石蜡溶解剂：将甲苯、三氯甲烷、四氯化碳和乙醚按一定比例混合，制备石蜡溶解剂；玻璃刻蚀液：将氢氟酸、浓硫酸和水按一定比例混合，制备玻璃刻蚀液；c、规则阵列的打印：用喷墨打印机将步骤b中的石蜡溶解剂按照规则阵列逐滴打印到载玻片表面的石蜡涂层上进行石蜡的局部溶解，直至溶透石蜡涂层，自然干燥，使玻璃表面局部暴露，得到石蜡涂层具有规则阵列的载玻片；d、玻璃的刻蚀：将步骤b中的玻璃刻蚀液均匀涂抹在步骤c得到的具有规则阵列的载玻片的表面，进行玻璃刻蚀，刻蚀时间为30～120s；e、去除刻蚀保护层：将玻璃刻蚀后的载玻片浸泡于热水中，去除石蜡刻蚀保护层，制得表面具有规则微井阵列的载玻片。