[发明专利]一种步进式光刻机对位监控方法有效
| 申请号： | 201410295485.1 | 申请日： | 2014-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN105223781B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 姚振海 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 无锡互维知识产权代理有限公司32236 | 代理人： | 庞聪雅 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种步进式光刻机对位监控方法，包括提供包括多个视场的测试版，基于每个视场得出一组overlay值；根据每个视场的overlay值计算一组补偿量；将产品的对位补偿值与每一个视场的每组补偿量进行比较，利用产品的对位补偿值对该产品进行对位补偿，其中，该产品的对位补偿值与其中一个视场的一组补偿量接近。本发明兼顾了各种视场的产品，不论视场大小，均可以做到精确补偿，可以加工前就给出预估补偿值，大大降低对位偏移发生的概率，本发明在不增加成本与人力的基础上，有效的改善对位控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 步进 光刻 对位 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种步进式光刻机对位监控方法,其特征在于：包括：提供包括多个视场的测试版，基于每个视场得出一组overlay值；根据每个视场的overlay值计算一组补偿量；将产品的对位补偿值与每一个视场的每组补偿量进行比较，选择一组与所述产品的对位补偿值接近的一组补偿量对该产品进行对位补偿。
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