[发明专利]一种在不可展开曲面上形成频率选择表面结构的方法有效

专利信息
申请号: 201410294267.6 申请日: 2014-06-27
公开(公告)号: CN104078762B 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 李洪深;唐培毅;杨洁颖;郝强;郭世峰;裴雨辰 申请(专利权)人: 航天特种材料及工艺技术研究所
主分类号: H01Q1/42 分类号: H01Q1/42;H01P1/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种在不可展开曲面上形成频率选择表面结构的方法,通过使用油墨在水溶性PVA薄膜上套印FSS周期阵列图形、将套印了FSS周期阵列图形的水溶性PVA薄膜图形向上平铺在平静水面上、在FSS周期阵列图形上喷撒雾化的有机溶剂、油膜图形贴附在具有不可展开曲面的制品表面、在具有不可展开曲面的制品表面得到FSS周期阵列图形等步骤。本发明不需改变制品的原工艺和材质,即可在任意曲面形状(特别是在不可展开曲面)上进行FSS图形的制作,制备的FSS阵列结构连续、精细,图形分辨率线宽达到0.1mm。
搜索关键词: 一种 不可 展开 曲面 形成 频率 选择 表面 结构 方法
【主权项】:
一种在不可展开曲面上形成频率选择表面结构的方法,其特征在于包括以下步骤:第一步,使用油墨在水溶性PVA薄膜上套印FSS周期阵列图形;将FSS周期阵列图形通过通用丝网印刷设备在水溶性PVA薄膜上使用导电油墨和非导电油墨套印,所述导电油墨体的电阻率低于1×10‑3Ω·cm,所述非导电油墨的体电阻率不低于1×106Ω·cm;第二步,将套印了FSS周期阵列图形的水溶性PVA薄膜图形向上平铺在平静水面上;第三步,待水溶性PVA薄膜融化后,在FSS周期阵列图形上喷撒雾化的有机溶剂,使FSS周期阵列图形变为油膜图形;第四步,将具有不可展开曲面的制品中心对准油膜图形中心,由上至下缓慢沉入水中,油膜图形贴附在具有不可展开曲面的制品表面;第五步,取出具有不可展开曲面的制品,去除多余油膜,在具有不可展开曲面的制品表面得到FSS周期阵列图形。
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