[发明专利]一种基于环形扫描斜率提取非球面面形测量系统及方法有效
申请号: | 201410294133.4 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104075667A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
发明(设计)人: | 吴永前;黄传科;范斌;刘锋伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 成金玉;孟卜娟 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于环形扫描斜率提取非球面面形测量系统及方法,属于光电技术检测领域,所述测量系统包括激光器、扩束系统透镜组、刻蚀不透明点的平面透镜、成像CCD和一维电控移动台构成;本发明基于环形扫描斜率提取的非球面面形测量,无需补偿器,动态范围大,精度高,其研究成果可用于主镜初抛阶段的检测,解决相关技术瓶颈,具有重要的工程应用价值和现实意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 环形 扫描 斜率 提取 球面 测量 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种基于环形扫描斜率提取非球面面形测量系统,其特征在于:所述测量系统包括激光器、扩束系统透镜组、刻蚀不透明点的平面透镜、成像CCD和一维电控移动台构成;测量系统放置在被测非球面镜的曲率中心附近,激光器发出的光经过扩束后经透镜组汇聚到平面透镜的外表面,光束汇聚到平面透镜的外表面时形成无像差点,在汇聚点的旁边刻蚀了很小的一个点,与光束聚焦点偏离毫米量级,刻蚀点微米大小;点光源发出的光,照射到被测非球面镜会反射回来,沿着镜面法线入射的光线会沿原光路返回,使点光源微小偏离光轴,镜面法线环带的光线会汇聚到被刻蚀的点上;镜面法线环带的光线被阻挡,其它环带的光没有被阻挡,则在成像CCD上可以看到镜面上法线处为一圈暗环;通过分析镜面成像的光强图,读出对应环带一维电控移动平台移动的距离,计算出环带的斜率,再通过对斜率积分得到被测非球面的面形。
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