[发明专利]用于电-Fenton阴极产生双氧水的三维多孔膜电极及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201410289056.3 申请日: 2014-06-23
公开(公告)号: CN104058484A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 郑蕾;丁爱中;豆俊峰;许新宜 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: C02F1/467 分类号: C02F1/467
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100875 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于电-Fenton阴极产生双氧水的三维多孔膜电极及其制备工艺。将乙炔黑前处理得到后物质B,物质B再经过Na2SO4、聚氧乙烯-8-辛基苯基醚、异丙醇、叔丁醇和聚四氟乙烯乳液处理后得到膏状物A;将膏状物A涂抹在处理后的镍网一侧经挤压处理得到物质E;将AgNO3和异丙醇制备成溶液B,将Ce(NO3)2、MnCl2和SnCl4制备成溶液C;将物质B、Na2SO4水溶液、聚氧乙烯-8-辛基苯基醚水溶液、异丙醇、叔丁醇、溶液B、溶液C和聚四氟乙烯乳液制备成膏状物B;将膏状物B涂抹在物质E的另一侧再经挤压、煅烧、冷却后即可得到用于电-Fenton阴极产生双氧水的三维多孔膜电极。
搜索关键词: 用于 fenton 阴极 产生 双氧水 三维 多孔 电极 及其 制备 工艺
【主权项】:
一种用于电‑Fenton阴极产生双氧水的三维多孔膜电极及其制备工艺,其特征在于,该工艺的具体步骤如下:(1)取5g乙炔黑加入500mL烧杯中,加入100mL去离子水并煮沸1h,除去上层杂质并真空抽滤,将抽滤后的乙炔黑放入80℃烘箱中干燥12h,得到物质A;(2)将物质A放入500mL烧杯中,向烧杯中加入100mL浓度为0.3mol/L的HNO3,搅拌6h后放入80℃烘箱中干燥24h,得到物质B;(3)将面积为25cm2正方形镍网放入500mL烧杯中,加入100mL去离子水并煮沸1h,取出镍网用250mL去离子水清洗,将清洗后的镍网放入500mL烧杯中,加入100mL浓度为0.1mol/L的盐酸溶液浸泡0.5h,然后取出镍网用250mL去离子水冲洗,晾干后得到物质C;(4)将3.5g物质B放入500mL烧杯中,然后加入10mL浓度为3.5mol/L的Na2SO4水溶液、7.5mL质量百分比浓度为20%的聚氧乙烯‑8‑辛基苯基醚水溶液、50mL异丙醇、30mL叔丁醇,在100r/min条件下搅拌10min,然后加入5.5mL质量百分比浓度为60%的聚四氟乙烯乳液,在100r/min条件下搅拌10min,得到溶液A,将溶液A放入80℃恒温水浴锅中,至溶液呈膏状,得到膏状物A;(5)将膏状物A涂抹在物质C的一侧得到物质D,将物质D放于压片机上,在压力为2t条件下保压1min,得到物质E;(6)将50ml浓度为0.5mol/L的AgNO3加入150ml异丙醇中,得到溶液B;(7)将20ml浓度为0.5mol/L的Ce(NO3)2溶液和70ml浓度为0.5mol/L的MnCl2溶液加入到100ml异丙醇和5ml浓盐酸中,然后再加入20ml浓度为0.5mol/L的SnCl4溶液,摇匀得到溶液C;(8)将0.4g物质B放入500mL烧杯中,然后加入5.5mL浓度为3.5mol/L的Na2SO4水溶液、4.5mL质量百分比浓度为20%的聚氧乙烯‑8‑辛基苯基醚水溶液、30mL异丙醇、20mL叔丁醇、5mL溶液B、7mL溶液C,在100r/min条件下搅拌10min,然后加入1.5mL质量百分比浓度为60%的聚四氟乙烯乳液,在100r/min条件下搅拌10min,得到溶液D,将溶液D放入80℃恒温水浴锅中,至溶液呈膏状,得到膏状物B;(9)将膏状物B涂抹在物质E的另一侧得到物质F,将物质F放于压片机上,在压力为2t条件下保压1min,得到物质G;(10)将物质G放入300℃马弗炉中煅烧1h,然后放在热压机中,在温度为350℃,压力为10t的条件下保压1min,冷却后即可得到用于电‑Fenton阴极产生双氧水的三维多孔膜电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京师范大学,未经北京师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410289056.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top