[发明专利]一种面向微通道的表面薄膜制备装置有效

专利信息
申请号: 201410280963.1 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN104030236A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 吴坚;王凯;陈涛 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种面向微通道的表面薄膜制备装置,尤其涉及用于微通道表面改性的工作,属于光学、流体力学、微流控芯片领域。该装置包括支架、激光输出头、风力输出头、微通道基片、透光挡板、UV胶层;其中,风力输出头包括通风管、通风小孔;该装置克服了传统薄膜制备的工艺复杂、加工环境要求高、成本昂贵的缺点,同时,基于气压激光固化涂层制备薄膜并对微流控PCR芯片中的激光加工微通道,可对其表面粗糙度和亲水性进行改性设计。
搜索关键词: 一种 面向 通道 表面 薄膜 制备 装置
【主权项】:
一种面向微通道的表面薄膜制备装置,其特征在于:该装置包括支架、激光输出头、风力输出头、微通道基片(1)、透光挡板(4)、UV胶层(5);其中,风力输出头包括通风管(2)、通风小孔(3);所述微通道基片(1)的微通道表面处涂有UV胶层(5);激光输出头固定在支架顶端且垂直照射在微通道基片(1)的微通道表面处,风力输出头安装在支架侧边的滑槽上且可沿滑槽移动;透光挡板(4)一端固定在微通道基片(1)的微通道表面凸起处,另一端固定在支架上,所述透光挡板(4)与微通道基片(1)水平夹角为θ;激光输出头的激光输出端安装有光圈,根据微通道基片(1)的微通道宽度可调节光圈的大小,从而实现对微通道基片(1)的光通量、光斑大小进行控制调节;所述通风管(2)中间设置有通风小孔(3),通风管(2)输出的风可沿着透光挡板(4)吹到UV胶层(5)表面,根据需要的UV胶层(5)厚度和微通道宽度来调节风力压强大小;激光输出头的光线通过光圈照到微通道表面覆盖的UV胶层(5)上,根据微通道基片(1)的微通道宽度来自动调节光圈大小控制光通量、光斑大小,风通过通风道(2)沿着一个透光挡板(4)吹到UV胶层(5)表面,根据需要的UV胶层(5)厚度和微通道宽度来调节风力压强大小;光圈大小由光圈驱动线圈和控制制动线圈来控制光圈的开口大小,风力压强大小由步进电机控制通风管(2)沿支架的滑槽移动,计算机操控步进电机来控制并由压力传感装置以及压力阀一起控制风力压强大小。
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