[发明专利]TaN-Ag硬质薄膜及制备方法在审
申请号: | 201410264441.2 | 申请日: | 2014-06-13 |
公开(公告)号: | CN104060231A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 喻利花;许俊华;黄婷 | 申请(专利权)人: | 江苏科技大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 212003 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种TaN-Ag硬质薄膜及其制备方法,TaN-Ag硬质薄膜是以高纯Ta靶和Ag靶为靶材,采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上得到的,薄膜分子式为TaN-Ag,厚度在1-3μm;沉积时,真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧,氮气为反应气体,溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:(2-5);Ta靶功率为150-250W,Ag靶功率为0-40W且大于0。所得硬质涂层综合具备了高硬度,良好的耐磨性等优良特点。 | ||
搜索关键词: | tan ag 硬质 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种TaN‑Ag硬质薄膜,其特征在于是以高纯Ta靶和Ag靶为靶材,采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上得到,薄膜分子式为TaN‑Ag,厚度在1‑3μm;Ag含量为0‑10at.%且大于0;在0‑0.86at.%范围内,薄膜的硬度随Ag含量的增加而升高,0.86at.%‑10at.%范围内,薄膜的硬度随Ag含量的增加而降低,当Ag含量高于0.86at.%时硬度最高为29GPa;平均摩擦系数随Ag含量的增加先保持稳定后减小;当Ag含量为6.4at.%时,平均摩擦系数达到最小值;当Ag含量为6.4at.%时的复合膜的平均摩擦系数随温度升高而降低,750℃时,摩擦系数最低为0.39。
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