[发明专利]一种立体光刻快速成形混杂型聚硅氧烷基光敏树脂组合物及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201410264108.1 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN105223777A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 马凤国;魏燕彦;林润雄 申请(专利权)人: 青岛科技大学
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266042 山东省青岛市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种立体光刻快速成形混杂型聚硅氧烷基光敏树脂组合物及其制备方法和应用,它主要包括以下质量配比的原料组份:聚硅氧烷环氧树脂20~70%;聚硅氧烷丙烯酸酯10~45%;自由基引发剂1.0~4.0%;阳离子型引发剂1.0~6.0%;聚硅氧烷稀释剂10~60%。按上述配比,将原料混合,搅拌下加热至透明的液体,即得立体光刻快速成形聚硅氧烷基光敏树脂。本发明所述的一种立体光刻快速成形混杂型聚硅氧烷基光敏树脂经过立体光刻成形后,既发挥光敏树脂的快速成型的特点,又具有聚硅氧烷的耐高低温的特性。利用该光敏树脂成形的零部件,具有精度高,耐热性好等优点。
搜索关键词: 一种 立体 光刻 快速 成形 混杂 型聚硅氧 烷基 光敏 树脂 组合 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种立体光刻快速成形混杂型聚硅氧烷基光敏树脂组合物,其特征在于:包括以下质量配比的原料组份:聚硅氧烷环氧树脂20~70%;聚硅氧烷丙烯酸酯10~45%;自由基引发剂1.0~4.0%;阳离子型引发剂1.0~6.0%;聚硅氧烷稀释剂10~60%;稀释剂10‑60%。
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