[发明专利]一种大尺寸平面度的在位测量方法有效
| 申请号： | 201410249777.1 | 申请日： | 2014-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN103983219B | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 李杰;吴时彬;曹学东;朱文;杨杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种大尺寸平面度的在位测量方法，包括步骤如下在被测平面附近布置两站激光跟踪仪，且两站激光跟踪仪之间相对被测平面具有一高度差；对两站激光跟踪仪的系统误差进行自校准；将两站激光跟踪仪位于被测平面附近不同的两位置，并分别测量被测平面上相同被测点的坐标，分别得到两站激光跟踪仪的第一位置坐标数据和第二位置坐标数据；使用第一位置坐标数据对第二位置坐标数据进行误差补偿，得到补偿后的坐标数据；对补偿后的坐标数据进行计算，获得被测平面的平面度。本方法使用一站对另外一站测量数据误差补偿，提升平面度测量精度。本发明测量简单高效且易于实现，尤其对加工过程中大尺寸平面度的在位检测有重要的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 平面 在位 测量方法 | ||
【主权项】：
一种大尺寸平面度的在位测量方法，其特征在于：该方法通过以下步骤完成：步骤S1：在被测平面附近布置两站激光跟踪仪，且两站激光跟踪仪之间相对被测平面具有一高度差；步骤S2：对两站激光跟踪仪的系统误差进行自校准；步骤S3：将两站激光跟踪仪位于被测平面附近不同的两位置，并分别测量被测平面上相同被测点的坐标，分别得到两站激光跟踪仪的第一位置坐标数据和第二位置坐标数据；步骤S4：使用第一位置坐标数据对第二位置坐标数据进行误差补偿，得到补偿后的坐标数据；步骤S5：对补偿后的坐标数据进行计算，获得被测平面的平面度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410249777.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：工作灯角度调节结构
- 下一篇：一种节能路灯的发电机支撑装置
