[发明专利]一种光刻机大面积静态调焦调平的装置和方法有效
| 申请号： | 201410199498.9 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN105892241B | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 齐景超;陈飞彪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种高效光刻机大面积静态调焦调平装置，包括：投影物镜、硅片、工件台和调焦调平装置，所述投影物镜将掩膜图形曝光到硅片上；所述调焦调平装置包括光源、照明镜组、投影狭缝、投影镜组、探测镜组和探测器，所述光源经过所述照明镜组和所述投影镜组将所述投影狭缝成像在被测物上，经被测物反射后通过所述探测镜组将投影狭缝的像成像在所述探测器上；其特征在于，所述投影狭缝的测量光斑可以覆盖多个曝光场，每个曝光场包括多个测量光斑。本发明提出的一种高效大面积静态调焦调平装置和方法，可同时对多个曝光场进行测量。场切换时直接到达最佳焦面，减少了测量及逐场调平时间，提高整机效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 大面积 静态 调焦 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机大面积静态调焦调平装置，包括光源、照明镜组、投影狭缝、投影镜组、探测镜组和探测器，所述光源经过所述照明镜组和所述投影镜组将所述投影狭缝成像在被测物上，经被测物反射后通过所述探测镜组将投影狭缝的像成像在所述探测器上；其特征在于，所述投影狭缝的测量光斑可以覆盖多个曝光场，每个曝光场包括多个测量光斑。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410199498.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种热板抽气装置及其温控方法
- 下一篇：压印装置及物品的制造方法
