[发明专利]三维模型单轴方向无限打印方法及系统有效
| 申请号： | 201410184554.1 | 申请日： | 2014-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103950201A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 虞立;蔡世光 | 申请（专利权）人： | 英华达（上海）科技有限公司;英华达（上海）电子有限公司;英华达股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 余毅勤 |
| 地址： | 201114 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种三维模型单轴方向无限打印方法及系统，所述方法包括：分析构建待打印工件的三维模型；将三维模型沿第一轴方向离散为多层的二维层面，并得到每一层二维层面的第二轴和第三轴二维平面坐标；每次根据每一层二维层面的第二轴和第三轴二维平面坐标依次进行每一层工件的第二轴方向的逐行点阵式打印。本发明能够突破现有的三维打印机的打印局限，实现三维模型的单方向轴的无限打印，即使体积较小的三维打印机也无需改动现有的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 模型 方向 无限 打印 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种三维模型单轴方向无限打印方法，其特征在于，包括：分析构建待打印工件的三维模型；将三维模型沿第一轴方向离散为多层的二维层面，并得到每一层二维层面的第二轴和第三轴二维平面坐标；每次根据每一层二维层面的第二轴和第三轴二维平面坐标依次进行每一层工件的第二轴方向的逐行点阵式打印。
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