[发明专利]一种GaAs基近红外波段含Sb多层量子点与非对称量子阱耦合激光器结构有效

专利信息
申请号: 201410172871.1 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN104037618B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 尤明慧;于新雨;李占国;刘景圣;李士军;欧仁侠;高欣;樊娟娟;孙启响;于秀玲;李雪;梁雪梅;史明非;孙连志 申请(专利权)人: 吉林农业大学
主分类号: H01S5/343 分类号: H01S5/343
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 本发明专利是一种GaAs基近红外波段含Sb多层量子点与非对称量子阱耦合激光器结构,即采用生长的多层InGaSb量子点与能带非对称量子阱耦合结构,来提高激光器材料、器件的性能。这种创意会在很大程度上增大量子点的体密度,增加对载流子的俘获能力,对量子点分布的均匀性也有所改善,增加量子点的尺寸和引入Sb基量子点,能够使发光谱峰向通讯波段的长波长移动,波长可以覆盖1.5μm,从而达到拓展波长、提高激光器特征温度和降低阈值电流等目的。这一结构再加之GaAs基工艺的成熟性,易于与现有光电子器件集成等特点,GaAs基长波长含Sb量子点激光器将具有十分广阔的应用前景,对实现性能优异的中红外半导体激光器将具有重要意义。
搜索关键词: 一种 gaas 红外 波段 sb 多层 量子 对称 耦合 激光器 结构
【主权项】:
一种GaAs基近红外波段含Sb多层量子点与非对称量子阱耦合激光器结构,具体为:GaAs衬底(1);变Al组分的AlxGal‑xAs限制层(2),其中Al组分x=0.35‑0.9,n型掺杂浓度从1.0×1018cm‑3渐变到5.0×1017cm‑3,厚度1200nm;Al0.35Ga0.65As波导层(3),厚度400nm;5对In0.18Ga0.82As/In0.30Ga0.70Sb/In0.31Ga0.69As量子点和量子阱耦合层(4),其中In0.18Ga0.82As厚度为6nm,In0.30Ga0.70Sb量子点平均高度12nm,In0.31Ga0.69As厚度为12nm;Al0.35Ga0.65As波导层(5),厚度400nm;变Al组分的AlxGal‑xAs限制层(6),p型掺杂浓度从5.0×1017cm‑3渐变到1.0×1018cm‑3,厚度1200nm;GaAs盖层(7),掺杂浓度1.0×1019cm‑3。
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