[发明专利]一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元有效
| 申请号： | 201410160658.9 | 申请日： | 2014-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN103926804A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;肖雷;魏立冬 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 仇蕾安;李爱英 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元，包括chirp式复眼、孔径光阑和聚光镜；其中chirp式复眼中第一排复眼的基底为阶梯型结构，第二排复眼的基底为等厚度结构，且第一排复眼上子透镜位于与其对应的第二排复眼上子透镜的物方焦平面处；基于通过chirp式复眼上每一子透镜的光束在掩模面上的照明区域大小相同的限定条件，确定chirp式复眼上各子透镜的口径与曲率半径。本发明在不使用旋转散射元件和光学延迟元件的情况下，可以有效抑制光刻照明系统中的干涉散斑，简化深紫外光刻照明系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 深紫 光刻 照明 系统 chirp 复眼 单元 | ||
【主权项】：
一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元，包括chirp式复眼、孔径光阑和聚光镜；其特征在于，chirp式复眼中第一排复眼的基底为阶梯型结构，第二排复眼的基底为等厚度结构，且第一排复眼上子透镜位于与其对应的第二排复眼上子透镜的物方焦平面处；基于通过chirp式复眼上每一子透镜的光束在掩模面上的照明区域大小相同的限定条件，确定chirp式复眼上各子透镜的口径与曲率半径。
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