[发明专利]成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置，其能够轻松调整对作为蒸发源的成膜材料导入等离子束的位置。本发明的成膜装置，在真空腔室（10）内通过等离子束（P）对成膜材料（Ma）进行加热而使其蒸发，并且使成膜材料的蒸发粒子（Mb）附着于成膜对象物（11）上，其构成为具备以下等离子源，在腔室内生成等离子束；作为主阳极的主炉缸，被填充成为蒸发源的成膜材料，并且向成膜材料导入等离子束或者被导入等离子束；作为辅助阳极的环炉缸，配置于主炉缸的周围，并且引导等离子束；一对辅助线圈，隔着蒸发源配置于两侧；及辅助线圈电源部，以使一对辅助线圈的极性相互不同的方式供给直流电流。

主权项

一种成膜装置，在真空腔室内通过等离子束对成膜材料进行加热而使其蒸发，并且使所述成膜材料的蒸发粒子附着于成膜对象物上，其特征在于，具备：等离子源，在所述真空腔室内生成所述等离子束；作为主阳极的主炉缸，作为蒸发源的所述成膜材料被填充于该主炉缸，并且该主炉缸向所述成膜材料导入所述等离子束或者被导入所述等离子束；作为辅助阳极的环炉缸，具有环状的线圈、环状的永久磁铁以及收容所述线圈以及所述永久磁铁的环状的外壳，配置于所述主炉缸的周围，并且引导所述等离子束；一对辅助线圈，从所述环炉缸的轴线方向观察时，隔着所述蒸发源配置于两侧；及辅助线圈电源部，在将配置所述成膜对象物的一侧设为正面时，以使所述一对辅助线圈的正面侧的极性相互不同的方式，向所述一对辅助线圈供给直流电流。