[发明专利]一种回转式HC-SCR脱硝反应器有效

专利信息
申请号: 201410153584.6 申请日: 2014-04-17
公开(公告)号: CN103908892A 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 程星星;马春元;王志强;董勇;王涛 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: B01D53/90 分类号: B01D53/90;B01D53/56
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 崔苗苗
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种回转式HC-SCR脱硝反应器,包括催化剂本体结构和催化剂本体结构外面的壳体,催化剂本体结构为圆柱形,包括中心轴转子、可绕中心轴转子旋转的多层圆形催化剂层,多层圆形催化剂层由径向密封板和轴向密封板分割为吸附区和还原区,吸附区和还原区之间有过渡区,吸附区、还原区、过渡区在每层圆形催化剂层上表现为不同的扇形区域,各层圆形催化剂层的吸附区上下相通,各层圆形催化剂层的还原区上下相通,壳体上设有与吸附区和还原区分别对应的进风口、出风口。吸附区和还原区的分离有利于分别提高吸附和还原过程的效率,进而提高整个反应器的脱硝效率。
搜索关键词: 一种 回转 hc scr 反应器
【主权项】:
一种回转式HC‑SCR脱硝反应器,其特征是,包括催化剂本体结构和催化剂本体结构外面的壳体,催化剂本体结构为圆柱形,包括中心轴转子、可绕中心轴转子旋转的多层圆形催化剂层,多层圆形催化剂层由径向密封板和轴向密封板分割为吸附区和还原区,吸附区和还原区之间有过渡区,吸附区、还原区、过渡区在每层圆形催化剂层上表现为不同的扇形区域,各层圆形催化剂层的吸附区上下相通,各层圆形催化剂层的还原区上下相通,壳体上设有与吸附区和还原区分别对应的进风口、出风口。
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