[发明专利]硬掩模表面处理有效
| 申请号： | 201410153574.2 | 申请日： | 2014-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN103941547B | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | D·王;P·特雷福纳斯三世;山田晋太郎;K·M·奥康纳 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027;C08F220/18;C08G79/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 硬掩模表面处理。提供了一种组合物，所述组合物包括：有机金属化合物；表面能为20‑49erg/cm2的表面处理聚合物，所述表面处理聚合物包含选自羟基、被保护的羟基、被保护的羧基及其混合的表面处理基团；和溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 硬掩模 表面 处理 | ||
【主权项】：
1.一种硬掩模组合物，所述组合物包括：有机金属化合物；表面能为20‑40erg/cm2的表面处理聚合物，所述表面处理聚合物包含选自羟基、被保护的羟基、被保护的羧基及其混合的表面处理基团；和溶剂，所述表面处理聚合物包括小于或等于20摩尔％单体，所述单体包括一个或多个表面处理基团，其中所述有机金属化合物选自：(![]()
)公式（1）的化合物![]()
其中每个X独立的选自二酮、C2‑20多元醇和C1‑20醇盐；且M为第3族至第14族的金属；（![]()
）低聚物，所述低聚物包括含第3族至第14族金属的侧基；（![]()
）公式（2）的化合物![]()
其中R1=H或CH3；M=第3族至第14族的金属；L为配体；n指的是配体的数量，且为1‑4的整数；（![]()
）公式（3）的化合物![]()
其中R2=C1‑6烷基；M1为第3族至第14族的金属；R3=C2‑6亚烷基‑X‑或C2‑6次烷基‑X‑;每个X独立的选自O和S；z为1‑5的整数；L1为配体；m 指的是配体的数量, 且为1‑4的整数；p=2‑25的整数；以及（![]()
）它们的混合物。
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