[发明专利]用于密度分析仪自校准的方法和装置有效
申请号: | 201410153038.2 | 申请日: | 2014-04-16 |
公开(公告)号: | CN104111209B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | A·库里克;M·G·布洛索;王海 | 申请(专利权)人: | 赛默飞世尔科技公司 |
主分类号: | G01N9/00 | 分类号: | G01N9/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 姬利永 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于密度分析仪自校准的方法、装置、过程和系统。该过程可包括用多个传感器或单个传感器测量容器内流体的密度分布,以及用多个取样端口测量容器内流体的密度分布。基于传感器测得的密度分布,可以对多个取样端口中的至少一个的位置附近的流体密度进行插值。基于取样端口测得的密度分布,可以对该多个传感器中的至少一个的位置附近的流体密度进行插值。基于插值的取样端口密度和插值的传感器密度,可以对多个传感器中的至少一个的校准的进行调整。 | ||
搜索关键词: | 用于 密度 分析 校准 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于密度分析仪的自校准的过程,所述过程包括:用多个传感器或单个传感器测量容器内的流体的密度分布;用多个取样端口测量所述容器内的流体的密度分布,所述取样端口用于从所述容器提取流体;基于传感器测得的密度分布,对所述多个取样端口中至少一个的位置附近的流体的密度进行插值;基于取样端口测得的密度分布,对所述多个传感器中至少一个的位置附近的流体的密度进行插值;以及基于插值的取样端口密度和插值的传感器密度,对所述多个传感器中至少一个的校准进行调整。
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