[发明专利]基于直流磁控溅射技术的干式软电极及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 201410138138.8 申请日: 2014-04-08
公开(公告)号: CN103876737A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 高发展;许倩 申请(专利权)人: 青岛柏恩鸿泰电子科技有限公司
主分类号: A61B5/0478 分类号: A61B5/0478;C23C14/35
代理公司: 青岛联信知识产权代理事务所 37227 代理人: 段秀瑛;王中云
地址: 266000 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及医疗器械领域,具体的说是一种基于直流磁控溅射技术的干式软电极,它包括基底,基底包括底座和位于底座上方的若干电极针,底座底部设有导电片,导电片设有导电线,并通过模套将导电片与基底底座紧密相连,模套设有供导电线通过的孔,其中,基底表面镀有导电层。本发明还提供一种基于直流磁控溅射技术的干式软电极的制备方法。本发明的有益效果在于:1、采集脑信号的可靠性,灵敏度。2、电极镀层附着力强,附着均匀,厚度可控,颜色可控。3、电极柔软,舒适性好。4、巧妙的结构设计。
搜索关键词: 基于 直流 磁控溅射 技术 干式软 电极 及其 制备 工艺
【主权项】:
一种基于直流磁控溅射技术的干式软电极,其特征在于:它包括基底(1),基底(1)包括底座(2)和位于底座(2)上方的若干电极针(3),底座(2)底部设有导电片(4),导电片(4)设有导电线(7),并通过模套(5)将导电片(4)与基底(1)底座(2)紧密相连,模套(5)设有供导电线(7)通过的孔(6),其中,基底(1)表面镀有导电层。
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