[发明专利]投影光学系统与投影仪设备有效
| 申请号： | 201410092948.4 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104049339A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 高野洋平 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G03B21/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种投影光学系统，包括：形成影像的成像单元；包括多个放大影像并把影像投影在屏幕上的透镜的折射光学系统；以及反射表面，其中，在折射光学系统与反射表面之间形成中间影像，投影光学系统满足“0.6<D/Did<0.8”且“2.5<Did/F<5”的条件，其中，“Did”代表在投影影像最大的聚焦状态中所述中间影像的最大近轴像高度，“D”代表光轴和近轴像表面与通过折射光学系统的孔径光阑中心的光束的交点之间的距离的最大值，“F”代表在投影影像最大的聚焦状态中折射光学系统的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 投影仪 设备 | ||
【主权项】：
一种投影光学系统，按以下顺序依次包括：形成影像的成像单元；折射光学系统，包括放大影像并把影像投影在屏幕上的多个透镜；和反射表面，其中，在折射光学系统和反射表面之间形成中间影像；以及投影光学系统满足“0.6<D/Did<0.8”且“2.5<Did/F<5”的条件，其中，“Did”代表在投影影像最大的聚焦状态中所述中间影像的最大近轴像高度，“D”代表光轴和近轴像表面与通过折射光学系统的光阑中心的光束的交点之间的距离的最大值，“F”代表在投影影像最大的聚焦状态中所述折射光学系统的焦距。
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