[发明专利]一种修复铬污染地下水的双层可渗透反应墙系统有效

专利信息
申请号: 201410088161.0 申请日: 2014-03-11
公开(公告)号: CN103880107A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 殷晓东;杨勇;崔夏;王颖;黄海;蒋建国 申请(专利权)人: 北京鼎实环境工程有限公司
主分类号: C02F1/28 分类号: C02F1/28;C02F1/70;C02F1/62;C02F101/22;C02F103/06
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贾玉健
地址: 100029 北京市西城区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种修复铬污染地下水的双层可渗透反应墙系统,由还原反应墙与吸附反应墙构成,还原反应墙在前,吸附反应墙在后,还原反应墙与吸附反应墙之间的间距为2.5-5m,还原反应墙与吸附反应墙的底端均深入到不透水层至少0.60~0.8m,顶端均需高于地下水最高水位0.4~0.5m,使用时污染水流先通过还原反应墙,再通过吸附反应墙,当铬污染的地下水流经时,先经还原反应墙与零价铁粉发生还原反应,可使六价铬转化为三价铬,秸秆中的有机质可作为电子供体,促进六价铬的还原,吸附反应墙则通过生物质吸附剂具有巨大表面积、强力吸附剩余污染物,解决了还原剂被冲走、还原产物被稀释冲走、还原剂使用饱和而未达到六价铬的还原等问题,实现地下水中铬污染的经济、高效去除。
搜索关键词: 一种 修复 污染 地下水 双层 渗透 反应 系统
【主权项】:
一种修复铬污染地下水的双层可渗透反应墙系统,其特征在于:由还原反应墙与吸附反应墙构成,还原反应墙在前,吸附反应墙在后,还原反应墙与吸附反应墙之间的间距为2.5‑5m,还原反应墙与吸附反应墙的底端均深入到不透水层至少0.60~0.8m,顶端均需高于地下水最高水位0.4~0.5m。
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