[发明专利]一种用于气液固三相反应的整体反应器的气液分布器

摘要

一种用于气液固三相反应的整体反应器的气液分布器，其主要解决以整体蜂窝、整体催化剂为固定床反应或者传递过程中的气液物流分布不均，导致整体反应器内的流体流动接触界面差，传递以及催化反应效率低的问题。本发明主要采用均匀分布于上下底板的降液管，且降液管伸出下底板长度为5-50mm，并且在降液管的相同高度的截面上开有相同面积和形状的小孔，而且小孔中心距上底板高度的距离为5-1000mm；距下底板高度的距离为10-1000mm；该技术方案可以实现气体和液体物流均匀的分布于降液管内，并且形成气液两相均匀混合流动状态，进而实现了气液两相在整体催化剂上的均匀分布。采用本发明的气液分布器可以大大地提高整体反应器的传递、反应效率。

主权项

一种用于气液固三相反应的整体反应器的气液分布器，该整体反应器的组成包括反应器壳体(2)、气液分布器、整体催化剂(7)，其特征在于：所述气液分布器由上底板(4)，降液管(5)，下底板(6)组成；其中，所述降液管(5)均匀的分布于上底板(4)与下底板(6)之间的平面上；降液管为垂直管道，其伸出下底板(6)的下方短管(9)的长度为2‑100mm，伸出上底板(4)的上方短管长度为0‑100mm；降液管(5)的直径D范围为1‑100mm；降液管(5)在上、下底板的开孔率为5‑70%；降液管道上的小孔(8)直径d与降液管(5)的直径D的比值为0.001‑0.6:1.0；降液管道上所有的小孔(8)的面积和S1与降液管(5)的面积和S2的比值为1.0×10^‑6‑0.72:1.0；降液管(5)上小孔(8)中心距上底板高度(h₁)的距离范围为3‑2000mm；降液管(5)上小孔(8)中心距与下底板高度(h₂)的距离范围为3‑2000mm；气体通过整体反应器的气体入口(1)进入均匀的分布于整个上底板(4)上，然后通过降液管(5)进入到整体催化剂(7)的通道内；液体通过整体反应器的液体入口(3)进入到由上底板(4)、下底板(6)、降液管(5)以及整体反应器壳体(2)组成的腔体内，然后通过在降液管(5)轴向方向上相同位置上布置的小孔(8)通入到降液管道(5)内部，最后流到整体催化剂(7)的表面上。