[发明专利]SW-200抛光剂在审
| 申请号： | 201410023532.7 | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN104250815A | 公开（公告）日： | 2014-12-31 |
| 发明（设计）人： | 李有余;李学刚;李茂军 | 申请（专利权）人： | 扬州市萤枫化工助剂有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/00 | 分类号： | C23F3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 225000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | SW-200抛光剂，包括以下成分：（重量百分比）氮川三乙酸二钠盐15%，柠檬酸乙基酰胺的三乙醇胺盐2%，十五至十七烷醇聚氧乙烯醚2.2%，三乙醇胺0.3%，表面活性剂1.2%，防锈剂0.4%，乙醇5%，去离子水70%，月桂酸二乙醇胺1.6%以及余量水，表面活性剂是非离子表面活性剂6501。本发明抛光剂性能稳定，光亮覆盖能力强，抛光速度快，用量少，无腐蚀性气体，有利于环境保护和工作人员的身体健康。 | ||
| 搜索关键词： | sw 200 抛光 | ||
【主权项】：
一种SW‑200抛光剂，其特征在于：是由重量百分比的15%氮川三乙酸二钠盐、2%柠檬酸乙基酰胺的三乙醇胺盐、2.2%十五至十七烷醇聚氧乙烯醚、0.3%三乙醇胺、1.2%表面活性剂、0.4%防锈剂、5%乙醇、70%去离子水、1.6%月桂酸二乙醇胺和余量水制备成。
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