[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法有效
| 申请号： | 201410019498.6 | 申请日： | 2008-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN103777471A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 谷津修 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本东京都千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有：分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 光学 设备 曝光 方法 装置 制造 | ||
【主权项】：
一种照明光学设备，使照明光对于形成有图案的掩膜进行照明，所述照明光学设备的特征在于包括：空间光调制器，含有：反射所述照明光的多个反射表面，将所述多个反射表面的朝向进行个别设定，而在所述照明光学设备的照明光瞳中形成所述照明光的强度分布；以及偏振单元，配置于所述照明光的光路中，对于具有线性偏振状态的所述照明光的偏振方向进行变换；其中，所述偏振单元是：以通过所述照明光瞳的所述照明光以S偏光作为主成分的偏振状态而照射到所述掩膜的方式，而变换所述照明光的偏振方向。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410019498.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
