[发明专利]用于RF高功率生成的装置和方法在审

专利信息
申请号: 201380081893.0 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN106464221A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: E·V·伊万诺夫;A·A·克拉斯诺夫;K·I·尼科尔斯基;S·A·波利科夫;G·B·沙尔科夫;A·Y·斯米尔诺夫 申请(专利权)人: 西门子有限责任公司
主分类号: H03F3/60 分类号: H03F3/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 王健;刘春元
地址: 暂无信息 国省代码: 俄罗斯;RU
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摘要: 发明涉及一种用于RF高功率生成的装置(1)和方法,包括:具有RF输入(3)和RF输出(4)的功率组合器(2),以及分别由传输线(6)电连接到功率组合器(3)的输入(3)的至少两个功率放大器模块(5)。定向耦合器(8)电连接到功率组合器(2)的RF输出(4),并且每条传输线包括RF开关(7)。该方法包括:测量和确定功率放大器模块(5)的值,存储该值并应用该值,作为对功率放大器模块(5)的输入信号的校正。
搜索关键词: 用于 rf 功率 生成 装置 方法
【主权项】:
用于RF高功率生成的装置(1),包括:具有RF输入(3)和至少一个RF输出(4)的至少一个功率组合器(2),以及分别由至少一条传输线(6)电连接到至少一个功率组合器(3)的输入(3)的至少两个功率放大器模块(5),其特征在于:至少一个RF开关(7)由至少一条传输线(6)包括,并且至少一个定向耦合器(8)电连接到至少一个功率组合器(2)的至少一个RF输出(4)。
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