[发明专利]在母材的表面通过掩模形成凸起的方法及装置在审
申请号: | 201380077204.9 | 申请日: | 2013-09-05 |
公开(公告)号: | CN105378137A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 | 申请(专利权)人: | SEP株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/34;C23C16/04;C23C16/44 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;陈国军 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种通过掩模形成凸起的方法及装置,更为详细地,涉及一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,并且所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。 | ||
搜索关键词: | 表面 通过 形成 凸起 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。
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