[发明专利]用于热管理的设备盖在审

专利信息
申请号: 201380077197.2 申请日: 2013-06-27
公开(公告)号: CN105409342A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 迈克尔·威廉·克斯斯托弗·普罗克特;谢沈会;吉里什·纳加纳坦 申请(专利权)人: 汤姆逊许可公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李敬文
地址: 法国伊西*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种电子设备包括针对一个或多个发热组件的盖,其中所述盖在保持设备处于规定的温度范围内的同时为发热组件提供至少组合的传导、对流和辐射冷却。通过在盖中的两个或更多个下陷区域中的每一个与一个或多个发热组件之间提供热耦合来实现传导冷却。适当地放置贯穿所述盖的进气口和出气口来为发热组件和热耦合下陷区域提供对流冷却。将来自热耦合到一个下陷区域的发热组件的热与由热耦合到另一邻近下陷区域的其它发热组件生成的热有效地隔离,其中所述其它发热组件至少部分地借助通过两个相邻下陷区域之间的内部区域的出气口热耦合到另一邻近下陷区域。还可通过增加设备盖材料的辐射系数来改善辐射冷却。
搜索关键词: 用于 管理 设备
【主权项】:
一种电子设备,包括:多个发热电子组件;所述电子设备的顶盖,包括:外围区域,至少部分地围绕第一和第二下陷区域,其中每个下陷区域与一个或多个发热电子组件热耦合;内部区域,位于第一和第二下陷区域之间;进气口,形成在一个或多个侧壁区域上,所述侧壁区域垂直于所述外围区域的外边缘并且沿着所述外围区域的外边缘延伸;出气口,形成为贯穿所述内部区域,所述内部区域基本位于第一和第二下陷区域之间。
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