[发明专利]非烧蚀性激光图案化有效
| 申请号： | 201380075745.8 | 申请日： | 2013-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN105122387B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | A·迪特里;R·J·马丁森;K·格罗斯 | 申请（专利权）人： | 恩耐公司 |
| 主分类号： | H01C17/22 | 分类号： | H01C17/22;H01C17/075;H01C17/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于处理透明基板的方法包括产生至少一种激光脉冲，所述激光脉冲具有被选择用于将安置在所述透明基板上的导电层以非烧蚀性方式改变成不导电特征的激光参数；及将所述脉冲导引到所述导电层。一种保护膜可以附着在所述透明基板的表面上并且在所述基板的处理期间无需移除。处理之后，经处理区域与未处理的区域可以是目测不可区别的。 | ||
| 搜索关键词： | 非烧蚀性 激光 图案 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理透明基板的方法，所述方法包括：产生至少一种激光脉冲，所述激光脉冲具有被选择用于将安置在所述透明基板上的具有小于或等于100nm的厚度并且包括银纳米线的导电层以非烧蚀性方式改变成包括银纳米线的不导电特征的激光参数；及将所述脉冲导引到所述导电层，其中所述激光参数包括200ps或小于200ps的脉冲长度和1.5J/cm2或小于1.5J/cm2的脉冲能量密度。
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