[发明专利]致密氟聚合物薄膜有效
| 申请号： | 201380073651.7 | 申请日： | 2013-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105073839B | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | J.A.阿布斯勒梅;C.哈蒙;G.卡尼;M.米伦达 | 申请（专利权）人： | 索尔维特殊聚合物意大利有限公司 |
| 主分类号： | C08G81/02 | 分类号： | C08G81/02;C08F214/24;C08J5/18;C08L27/16;C08L71/02;H01M2/16;H01M10/052;H01M10/0565;C08F214/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周李军;徐厚才 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造致密薄膜的方法，所述方法包括，优选地由以下步骤组成：(a)提供固体组合物[组合物(C)]，该固体组合物包含，优选由以下各项组成：‑至少一种包含一个或多个羧酸官能端基的偏二氟乙烯(VDF)氟聚合物[聚合物(F)]，‑至少一种具有式(I)的聚(氧化烯)(PAO)：HO‑(CH2CHRAO)n‑RB(I)其中RA是氢原子或C1‑C5烷基，RB是氢原子或‑CH3烷基并且n是包括在2000与40000之间、优选地在4000与35000之间、更优选地在11500与30000之间的整数，以及‑任选地，至少一种无机填充剂[填充剂(I)]；并且(b)在熔融相中处理所述组合物(C)，由此提供具有从5μm至30μm的厚度的致密薄膜。本发明还涉及由所述方法提供的致密薄膜以及所述致密薄膜作为电化学装置中的致密隔膜的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 致密 聚合物 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造致密薄膜的方法，所述方法包括以下步骤或由以下步骤组成：(a)提供固体组合物[组合物(C)]，该固体组合物包含以下各项或由以下各项组成：‑至少一种包含一个或多个羧酸官能端基的偏二氟乙烯(VDF)氟聚合物[聚合物(F)]，其中该聚合物(F)包含衍生自以下各项的重复单元：偏二氟乙烯(VDF)，至少一种包含一个或多个羧酸官能端基的氢化单体[单体(H)]，以及任选地，一种或多种不同于VDF的氟化单体，‑至少一种具有式(I)的聚(氧化烯)(PAO)：HO‑(CH2CHRAO)n‑RB(I)其中RA是氢原子或C1‑C5烷基，RB是氢原子或‑CH3烷基并且n是包括在2000与40000之间的整数，其中该具有式(I)的PAO具有包括在100000与1800000之间的平均分子量，以及‑任选地，至少一种无机填充剂[填充剂(I)]；其中该组合物(C)包含相对于组合物(C)总体积按体积计20％至95％的所述至少一种聚合物(F)以及按体积计5％至80％的所述至少一种具有式(I)的PAO，并且(b)在熔融相中处理所述组合物(C)，由此提供具有从5μm至30μm的厚度和相对于所述薄膜的总体积小于5体积％的孔隙率的致密薄膜。
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