[发明专利]粒子射线旋转照射装置及粒子射线治疗装置有效
| 申请号： | 201380072215.8 | 申请日： | 2013-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN104968394B | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 青木隆介 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | G21K5/10 | 分类号： | G21K5/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 俞丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的粒子射线旋转照射装置的目的在于，即使是螺旋型的情况下也能够将在照射嘴移动时能避开的移动底板设置于框架内。根据本发明的粒子射线旋转照射装置(20)，其特征在于，包括对照射嘴(1)进行支持且进行旋转的框架(2)；设置于框架(2)的内周侧且对照射嘴(1)进行支持的照射嘴支持体(12)；具有能在以框架(2)的旋转轴为中心的圆周方向上进行移动的辊子(6)的移动底板(3)；以及设置于框架(2)的内周侧的圆周方向上且对辊子(6)进行支持的移动底板导轨(7)，照射嘴支持体(12)和移动底板(3)分别具有可相互装脱的结合部(9)。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 射线 旋转 照射 装置 治疗 | ||
【主权项】：
一种粒子射线旋转照射装置，该粒子射线旋转照射装置是在照射对象的周围自由旋转地照射带电粒子束的粒子射线旋转照射装置，其特征在于，包括：照射嘴，该照射嘴向所述照射对象照射所述带电粒子束；框架，该框架对所述照射嘴进行支持，并以所述带电粒子束的照射基准即等中心为中心而进行旋转；照射嘴支持体，该照射嘴支持体设置于所述框架的内周侧，对所述照射嘴进行支持；移动底板，该移动底板具有能在以所述框架的旋转轴为中心的圆周方向上移动的辊子；以及移动底板导轨，该移动底板导轨设置于所述框架的内周侧的圆周方向上，对所述辊子进行支持，所述照射嘴支持体和所述移动底板分别具有在以所述框架的旋转轴为中心的圆周方向上可相互装脱的结合部。
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