[发明专利]用于显示设备的干涉式光吸收结构在审
| 申请号： | 201380066535.2 | 申请日： | 2013-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN104871042A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 石健如 | 申请（专利权）人： | 皮克斯特隆尼斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B5/20;G02B5/28;G02B26/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林斯凯 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供与光吸收结构有关的系统、方法和设备。在一个方面中，光吸收结构具有金属层和与所述金属层接触的半导体层。每一层具有高达约50nm的厚度。所述金属层可包含钛Ti、钼Mo和铝Al中的至少一者。所述半导体层可包含非晶硅a-Si层。所述光吸收结构可包含于具有支撑显示元件阵列的衬底的显示设备中。所述光吸收结构可包含与所述金属层接触的电介质层和与所述半导体层接触的厚金属层。在另一方面中，光吸收结构具有金属层和与所述金属层接触的ITO层。所述ITO层的厚度可小于约100nm。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 显示 设备 干涉 光吸收 结构 | ||
【主权项】：
一种设备，其包括：光吸收结构，其包含：金属层；及半导体层，其与所述金属层接触，其中所述金属层和所述半导体层中的每一者具有小于或等于约50nm的厚度。
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