[发明专利]摄像装置及对焦控制方法有效

专利信息
申请号: 201380062558.6 申请日: 2013-09-12
公开(公告)号: CN104823094B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 井上和纪;青木贵嗣 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B7/28 分类号: G02B7/28;G02B7/34;G02B7/36;G03B13/36;H04N5/232
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 熊传芳,苏卉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供摄像装置及对焦控制方法,根据对被摄体进行摄影的环境、摄影时的摄影条件等来选择最佳的AF方式而提高摄像质量。摄像装置的系统控制部(11)根据对F值设定的判定阈值与作出AF指示的情况下的设定F值的大小关系,选择并进行相位差AF方式的对焦控制和对比度AF方式的对焦控制中的任一种控制。系统控制部(11)能够根据作出AF指示的情况下的曝光值来改变判定阈值。
搜索关键词: 摄像 装置 对焦 控制 方法
【主权项】:
一种摄像装置,具有经由包括聚焦透镜的摄像光学系统对被摄体进行摄像的摄像元件,所述摄像装置具备:对焦控制部,对与被摄体条件有关的多个参数和与所述摄像装置所设定的摄像条件有关的多个参数中的任一参数所设定的判定阈值与作出进行所述聚焦透镜的对焦控制的指示的情况下的所述任一参数的值进行比较,根据该参数的值是否小于所述判定阈值来切换从第一对焦控制和第二对焦控制中选择的对焦控制,并执行所选择的对焦控制,与被摄体条件有关的多个参数包括由所述摄像元件拍摄的被摄体的对比度值、亮度值或者空间频率,与摄像条件有关的多个参数包括所述摄像光学系统的F值、所述摄像光学系统所含的聚焦透镜的位置、所述摄像光学系统的焦距或者所述摄像元件的曝光值,所述第一对焦控制通过相位差AF方式来将所述聚焦透镜控制到对焦位置,所述第二对焦控制通过对比度AF方式来将所述聚焦透镜控制到对焦位置;及判定阈值可变部,能够根据从与被摄体条件有关的所述多个参数和与摄像条件有关的所述多个参数中的、将作为所述判定阈值而设定的参数排除在外的参数中选择的三个以上参数的组合来改变所述判定阈值。
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