[发明专利]照射装置及照射方法无效
| 申请号： | 201380060282.8 | 申请日： | 2013-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN104797980A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | T·C·季米特里亚季斯 | 申请（专利权）人： | 英特斯特公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王丽军 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种照射晶圆的方法及一种设置用于照射晶圆的装置。多个辐射发射器发出辐射。遮罩允许由所述多个辐射发射器发出的电磁辐射的一部分穿过，且阻挡所述电磁辐射的另一部分穿过。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种照射装置，所述装置包括：多个辐射发射器，由所述多个辐射发射器发出电磁辐射；以及遮罩，其允许来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的一部分穿过，且阻挡来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的另一部分穿过。
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