[发明专利]EUV集光器有效
申请号: | 201380058294.7 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN104769503B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | M.恩德雷斯 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 一种用于将来自EUV辐射源(3)的EUV辐射(14)传输至照明远场(17a)的EUV集光器(15)。所述集光器(15)包含至少一个正反射镜集光器子单元(23),其包含至少一个用于正入射的反射镜(23)。另外,所述集光器(15)包含至少一个掠反射镜集光器子单元(30),其包含至少一个用于掠入射的反射镜(30)。所述集光器子单元(23,30)的布置使得产生所述EUV辐射(14)在所述远场(17a)上的强度分布,其由通过至少还在所述正反射镜集光器子单元(23)处的反射产生的内部正反射镜强度分布以及通过至少还在所述掠反射镜集光器子单元(30)处的反射产生的外部掠反射镜强度分布构成。所述强度分布至少在所述远场(17a)的大于总远场(17a)的40%的部分上与所述远场(17a)的所述部分的平均强度偏离小于20%。这导致对布置在集光器下游的照明光学单元的光束引导的要求降低。 1 | ||
搜索关键词: | 集光器 反射镜 子单元 远场 强度分布 正反射镜 反射 照明光学单元 光束引导 正入射 入射 偏离 传输 外部 | ||
【主权项】:
1.将来自EUV辐射源(3)的EUV辐射(14)传输至照明远场(17a)的EUV集光器(15),‑包含至少一个正入射反射镜集光器子单元(23;44;49),所述至少一个正入射反射镜集光器子单元包含用于正入射的至少一个反射镜(23;23,45),其将来自所述辐射源(3)的EUV辐射(14)传输至所述照明远场(17a),‑其中,在用于正入射的反射镜(23;23,45)处,反射的辐射关于反射镜的法线的入射角至多35°,‑包含至少一个掠入射反射镜集光器子单元(30;35;41;47;50),所述至少一个掠入射反射镜集光器子单元包含用于掠入射的至少一个反射镜(30;30,36,37;30,36,37,42,43;30,48;30,51),其将来自所述辐射源(3)的EUV辐射(14)传输至所述照明远场(17a),‑其中,所述集光器子单元(23,30;23,35;23,41;44,47;49,30;49,50)的布置使得产生所述EUV辐射(14)在所述远场(17a)上的总强度分布(I(r)),所述总强度分布由正入射反射镜强度分布(IN)和掠入射反射镜强度分布(IG)经由不同集光器光束路径构成,所述正入射反射镜强度分布通过至少还在所述正入射反射镜集光器子单元(23;44;49)处的反射产生,所述掠入射反射镜强度分布通过至少还在所述掠入射反射镜集光器子单元(30;35;41;47;50)处的反射产生,其中,所述总强度分布(I(r))至少在所述远场(17a)的大于所述远场(17a)的40%的部分(r1
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